Substance 3D Stager에서 일반적으로 사용되는 용어에 대해 알아보십시오.
Substance 3D Stager 애플리케이션 및 도움말 페이지에서 익숙하지 않은 용어를 보게될 수 있습니다. 아래의 목록은 일반적으로 사용되는 용어의 설명입니다.
용어 | 설명 |
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정렬 및 분산 |
정렬 및 분산 작업을 사용하면 선택한 개체 그룹을 서로 상대적인 위치에 정렬합니다. |
앤티 앨리어싱 |
앤티 앨리어싱은 이미지의 앨리어싱을 줄이는 방법입니다. 앨리어싱은 래스터화 중에 발생할 수 있는 시각적 아티팩트를 설명하는 용어로, 주로 직선이나 곡선 가장자리에 들쭉날쭉한 형태로 나타납니다. |
ASM(Adobe Standard Material) |
ASM은 공통되는 매개 변수 세트를 가진 재질 사양입니다. ASM에 포함된 매개 변수를 사용하여 다양한 범위의 재질을 생성하고 매개 변수화할 수 있습니다. 공통 매개 변수 세트를 사용하면 ASM을 여러 애플리케이션에 쉽게 사용하여 일관된 결과를 얻을 수 있습니다. |
에셋 |
에셋은 3D 장면을 구성하는 개체입니다. 메시, 재질, 조명, 이미지는 모두 자산에 속합니다. |
베이킹 |
베이킹(또는 적용)은 3D 메시에서 얻은 정보를 계산하여 이를 메시의 UV 정보에 따라 텍스처에 저장하는 작업을 말합니다. |
카메라 |
Stager를 사용하면 카메라를 여러 대 배치하여 다양한 각도에서 장면을 렌더링할 수 있습니다. 뷰포트를 사용해 카메라를 통해 보면 콘텐츠의 프레임을 정확하게 적용할 수 있습니다. |
필드 깊이 |
필드 깊이는 초점 내에서 이미지의 초점이 얼마나 떨어져 있는지 나타냅니다. 필드 깊이가 얕으면 초점이 맞춰지는 초점 주변의 범위가 좁으며, 필드 깊이가 깊으면 그 반대를 의미합니다. 실제로 필드 깊이가 얕으면 피사체에만 초점이 맞는 것을 의미하고, 필드 깊이가 깊으면 전체 이미지에 초점이 맞는 것을 의미합니다. |
변위 |
변위는 높이 맵이라고 하는 2D 텍스처에 따라 모델 표면이 원래 위치에서 오프셋되는 효과입니다. |
환경 조명 |
환경 조명은 장면에 조명을 물리적으로 정확하고 빠르게 적용하기 위해 사용되는 이미지입니다. 환경 조명을 사용하면 현실감 있는 반사와 360도 조명을 얻을 수 있습니다. |
내보내기 |
내보내기 기능을 사용하여 Stager에서 생성한 작업을 다른 애플리케이션에서 사용할 수 있습니다. |
시야(FOV) |
FOV는 카메라를 통해 볼 수 있는 범위입니다. FOV는 초점 거리라고도 하며, mm 값 또는 각도(도)로 표현됩니다. |
GPU |
GPU 또는 "그래픽 처리 장치"는 일반적으로 2D 및 3D 그래픽에서 작업을 효율적으로 수행하도록 설계된 칩입니다. GPU는 일반적으로 그래픽 카드에서 찾을 수 있습니다. |
그래픽 카드 |
그래픽 카드는 컴퓨터의 이미지 표시 기능을 향상하거나 GPU 작업을 수행하기 위해 컴퓨터에 추가되는 확장 카드입니다. |
높이 맵 |
높이는 재질을 작성하는 데 사용되는 채널 중 하나입니다. 높이 맵은 각 픽셀의 표면으로부터 상대적인 수직 오프셋이 저장되는 텍스처입니다. 높이 맵을 변위와 함께 사용하여 모델에 디테일을 추가할 수 있습니다. |
히스토그램 |
히스토그램은 이미지의 색 분포를 그래픽으로 보여줍니다. 이미지 내 색상이 그림자, 중간 영역, 하이라이트 사이에 어떻게 균형을 이루는지 시각화하는 데 사용됩니다. |
이미지 기반 조명 |
이미지 기반 조명(IBL)은 이미지를 사용해 3D 장면에 조명과 반사를 만드는 한 방법입니다. IBL은 높은 동적 범위의 이미지에 사용하여 실사와 같은 결과물을 얻으려고 할 때 가장 유용합니다. IBL은 환경 내에서 조명을 개별적으로 배치하여 반사를 만들어 보는 것보다 실제 조명 설정을 빠르게 생성할 수 있어 편리합니다. Stager에서 환경 조명은 IBL 기술을 사용합니다. |
로그 |
로그는 소프트웨어가 실행되는 동안 중요한 정보를 기록하는 텍스트 파일입니다. 이러한 정보에는 애플리케이션이에서 수행한 작업과 발생한 오류 등의 데이터가 포함됩니다. |
낮은/높은 폴리 메시 |
낮은 폴리 메시와 높은 폴리 메시는 모두 3D 메시입니다. 낮은 폴리 메시는 다각형 밀도(또는 다각형 수)가 낮은 반면, 높은 폴리 메시는 다각형 수가 훨씬 많습니다(보통 100배 이상 많음). 이 작업은 보통 높은 폴리 메시에서 낮은 폴리 메시로 디테일을 적용하는 데 사용됩니다. 이를 높은 폴리에서 낮은 폴리로의 워크플로라고 하며, 그 결과 상세하고 우수한 메시가 생성됩니다. |
재질 |
재질은 재질이 적용되는 표면의 속성을 정의하는 데 사용되는 여러 정보를 말합니다. 이 정보는 주로 표면과 빛의 상호 작용과 관련이 있지만, 변위나 마스킹과 같은 다른 효과를 얻기 위해 사용할 수도 있습니다. |
이미지 재질 레이어 |
Stager에서 이미지 재질 레이어를 사용해 이미지를 모델에 추가할 수 있습니다. 이러한 이미지 레이어는 기본 재질 위에 적용되며, 한 재질에 여러 이미지 레이어를 적용할 수 있습니다. 각 이미지 레이어는 고유한 재질 속성을 가집니다. |
메시 |
메시는 3D 개체입니다. 메시는 꼭지점, 모서리, 다각형으로 정의됩니다. 메시는 3D 모델링 애플리케이션에서 만들 수 있습니다. |
MIP 맵 |
MIP 맵은 미리 계산된 텍스처입니다. 보통 각 후속 이미지가 이전 이미지 해상도의 1/2인 이미지의 시퀀스로 구성됩니다. MIP 맵은 모델이 멀리 떨어져 있을 때 저해상도 텍스처를 사용하며, 이는 성능을 개선하는 데 도움이 됩니다. |
모드 |
모드는 워크플로에 초점을 맞추거나 워크플로를 조정하는 데 사용할 수 있는 기능의 모음을 의미합니다. 예를 들어 Stager에서는 인터페이스 레이아웃으로 디자인 모드와 렌더링 모드의 2가지 모드를 사용할 수 있습니다. 디자인 모드는 장면 디자인에 초점을 맞추고 렌더링 모드는 렌더링 생성에 초점을 맞춥니다.
일부 도구에서는 도구의 동작을 변경할 수 있는 모드를 사용할 수 있습니다. 예를 들어 환경 조명 도구에는 상호 작용 모드가 있는데, 이를 사용하면 도구를 전환하지 않고도 환경 조명의 여러 측면을 조정할 수 있습니다. |
노이즈 |
노이즈는 절차적이며 임의의 이미지입니다. 유기적 형태를 만들거나 평평한 텍스처에 질감을 깰 때 노이즈를 유용하게 사용할 수 있습니다. |
노멀 |
노멀은 3D 요소에서 수직을 이루는 벡터입니다. 노멀은 요소가 향하는 방향을 나타냅니다. 예를 들어 평평한 바닥 평면의 노멀은 곧게 위로 향하고, 평평한 천장 평면의 노멀은 직선으로 아래를 향합니다. 꼭지점, 모서리, 평면에는 모두 노멀이 있습니다. |
표준 맵 |
표준 맵은 재질을 작성하는 데 사용되는 채널 중 하나를 구성합니다. 표준 맵은 메시 표면에서 빛이 반사되는 방식을 변경하여 디테일을 추가하는 특수 텍스처입니다. 표준 맵의 각 픽셀에는 픽셀이 향하는 방향을 렌더러에 알려주는 벡터가 포함됩니다. 렌더러는 이 정보를 사용하여 해당 픽셀에 부딪히는 빛의 양을 조절할 수 있습니다. |
OpenGL/DirectX |
OpenGL과 DirectX는 프로그램이 GPU의 기능에 직접 액세스하도록 하는 애플리케이션 프로그래밍 인터페이스(API)입니다. |
원점 |
원점은 3D 공간의 중심점으로, 0X, 0Y, 0Z 좌표로 표시됩니다. |
직각 |
직각 투영법은 3차원 개체를 2차원으로 표시하는 방법입니다. 직각 투영법을 사용하면 투영되는 모든 선이 투영되는 평면에 직각으로 떨어집니다. 직각 시점에서는 3D 개체의 크기가 카메라와의 거리에 관계없이 동일하게 나타납니다. |
매개 변수 |
매개 변수는 에셋을 수정하기 위해 조정할 수 있는 값을 말합니다. 매개 변수를 사용하면 여러 항목을 제어할 수 있습니다. 예를 들어 대부분의 재질에는 거칠기나 투명도 등을 조정하는 데 사용할 수 있는 매개 변수가 포함됩니다. 파라메트릭 메시에는 크기나 비율 외에도 다른 여러 옵션을 조정할 수 있는 매개 변수가 포함됩니다. |
파라메트릭 모델 |
파라메트릭 모델은 메시의 성질을 제어하는 매개 변수를 사용해 Stager 내에서 수정할 수 있는 3D 메시를 말합니다. 각 파라메트릭 모델의 매개 변수는 메시에 따라 달라지므로, 예를 들어 경사의 매개 변수가 한 파라메트릭 모델에는 있을 수 있지만 다른 파라메트릭 모델에는 없을 수도 있습니다. |
PBR/PBS |
물리적 기반 렌더링(PBR) 또는 물리적 기반 음영(PBS)은 실제 빛의 속성을 정확하게 모델링하는 방식으로 그래픽을 렌더링하는 컴퓨터 그래픽 모델입니다. |
원근감 |
원근 투영 또는 원근 시점은 카메라에서 멀리 떨어진 개체가 근처의 개체보다 작게 표시되도록 3D 정보를 렌더링하는 방법입니다. 이렇게 하면 장면에서 깊이 있는 느낌을 만들 수 있습니다. 원근에 대한 일반적인 대안은 직각 시점입니다. |
물리적 조명 |
물리적 조명은 Stager 내 개체로, 지정된 영역에 조명을 적용하기 위해 장면 내에서 이동시킬 수 있습니다. 물리적 조명을 사용하면 장면의 모습을 더 잘 제어할 수 있습니다. |
픽셀 |
픽셀은 이미지를 구성하는 블록입니다. 각 픽셀에는 색상 정보가 포함되며 픽셀이 모여 그림을 형성합니다. 픽셀은 이미지를 표시할 수 있는 최소 단위입니다. |
사후 처리 |
사후 처리는 이미지를 렌더링한 후 3D 이미지에 적용하는 시각적 효과입니다. 사후 처리 효과의 예로는 색상 보정, 블룸, 흐림 효과 등이 있습니다. |
절차적 |
절차적이란 프로그램에서 일관된 결과를 만들기 위해 따르게 되는 일련의 지침이나 절차를 설명하는 용어입니다. 절차적 도구는 출력을 제어할 수 있는 입력 매개 변수를 사용하는 경우가 많습니다. |
래스터 이미지 |
래스터 이미지는 2D 그리드에 배치되는 픽셀로 구성된 이미지입니다. 래스터화는 다른 형태의 데이터를 래스터 이미지로 변환하는 프로세스입니다. 예를 들어 렌더링 도구는 3D 도형의 데이터를 래스터화하여 렌더링하거나 래스터 이미지를 만듭니다. |
렌더링 |
렌더링은 렌더링 도구를 사용하여 만든 이미지입니다. |
렌더링 도구 |
렌더링 도구는 조명, 메시, 재질 등의 3D 정보를 처리하여 2D 이미지를 만들도록 제작된 프로그램입니다. |
해상도 |
Stager에서 해상도는 이미지의 픽셀 밀도를 나타냅니다. 픽셀 밀도는 이미지를 인쇄하거나 모바일, 데스크톱 등의 다양한 디스플레이에서 이미지를 사용할 때 고려해야 하는 중요한 요소입니다.
참고: 일부 3D 애플리케이션에서 해상도는 이미지의 너비와 높이 또는 이미지 크기를 나타냅니다. |
셰이더 |
셰이더는 조명 정보를 수신하는 재질의 동작을 정의하는 기능입니다. 일부 셰이더는 단순하거나(예: 만화 음영) 고급 기능(예: 표면의 빛 흡수를 시뮬레이션한 피부 음영)이 필요할 수도 있습니다. |
표준 모델 |
표준 모델은 3D 메시를 말합니다. 파라메트릭 모델과 달리 표준 모델은 Stager에서 메시를 변경하는 데 사용할 수 있는 매개 변수가 없습니다. Stager에는 기본적으로 다양한 표준 모델이 포함되어 있으며, 대부분의 다른 출처에서 가져온 모델도 일단 Stager에서 있으면 표준 모델로 간주됩니다. |
Substance 재질 |
Substance 재질은 Substance의 여러 도구를 사용하여 만든 절차적 재질입니다. 대부분의 Substance 재질에는 원하는 최종 결과를 얻기 위해 수정이 가능한 고유 매개 변수가 사용됩니다. |
테슬레이션 |
테슬레이션은 메시에 도형을 추가하여 메시가 부드럽게 표현되도록 하는 기법입니다. 테슬레이션 기능은 다양한 세분화 알고리즘을 사용하여 메시에 꼭지점과 모서리를 추가하는 방식으로 사용합니다. 변위는 도형 해상도가 높을수록 효과가 좋기 때문에 테슬레이션은 주로 변위의 시각적 결과를 개선하는 데 사용됩니다.
Stager는 CAD 모델을 불러올 때 테슬레이션을 적용합니다. |
텍셀 |
텍셀은 텍스처 공간의 한 단위입니다. 텍셀은 3D와 2D 사이의 표면을 변환하는 데 유용하며, 텍셀 크기는 프로젝트에 따라 다릅니다. 예를 들어 3D 에셋을 cm 단위로 측정하는 경우 텍셀 크기를 1cm x 1cm로 정의할 수 있습니다. 그런 다음 텍셀당 저장할 픽셀 수를 결정할 수 있습니다. 텍셀당 픽셀 수를 텍셀 밀도라고 합니다. |
텍셀 밀도 |
텍셀 밀도는 텍스처에서 텍셀당 픽셀 수입니다. 예를 들어 텍셀의 높이가 10픽셀이고 폭이 10픽셀이면 텍셀 밀도는 10입니다. 텍스처 디테일을 다양하게 사용하지 않으려면 장면 내에서 모든 모델의 텍셀 밀도를 일정하게 사용하는 것이 좋습니다. 다시 말해, 텍셀 밀도가 일정하다는 것은 3D 공간에서 2개의 표면 크기가 같다면 픽셀 수도 동일하다는 의미입니다. |
텍스처 |
텍스처는 3D에서 사용하기 위해 만든 2D 이미지입니다. 텍스처는 하나의 채널만 사용되는 회색 음영이나 여러 채널이 사용되는 컬러일 수 있습니다. 일반적으로 각각 지정된 역할(예: 색, 거칠기, 금속 질감 등)이 있는 여러 텍스처가 모여 재질이 완성됩니다. 텍스처는 거의 모든 경우 정사각형을 사용하고, 2의 제곱, 즉 1024x1024 또는 2048x2048 등으로 사용합니다. 이는 GPU가 이러한 해상도에서 작동하도록 최적화되었기 때문입니다. |
바둑판식 배열 |
바둑판식 배열이란 UV 공간의 이음새가 보이지 않도록 텍스처를 반복해서 보이게 하는 방법입니다. 바둑판식 배열 텍스처는 바닥이나 벽과 같이 크기가 한정되지 않은 표면에 주로 사용됩니다. |
도구 |
도구는 장면을 만들고, 장면과 상호 작용하기 위해 사용하는 도구입니다. |
도구 모음 |
도구 모음에는 일반적으로 사용되는 도구가 포함됩니다. |
UV |
UV는 2D 공간에 3D 모델을 나타내는 작업입니다. UV는 2D 이미지를 2D 공간에서 3D 공간의 모델 표면으로 매핑하는 데 사용됩니다. UV를 만드는 과정은 흔히 모델의 이음새를 잘라 펴서 평평하게 만드는 과정으로 설명됩니다. |
뷰포트 |
장면을 보여 주는 뷰포트는 장면과 상호 작용하거나 장면을 변경하는 주요 방법입니다. 뷰포트는 3D 공간을 볼 수 있는 카메라이며, 뷰포트를 사용하면 장면에서 사용되는 모든 카메라를 통해 볼 수 있습니다. |
VRAM |
VRAM은 GPU의 메모리로서, 계산을 수행할 때 정보와 텍스처를 저장하는 데 사용됩니다. |
다음 단계
Substance 3D Stager에서 사용되는 특정 용어에 대해 모두 알아보았습니다. 이제 앱의 사용자 인터페이스 및 작업 영역에 대해 알아보십시오.
질문이나 아이디어가 있습니까?
의문 사항이 있으시면 Substance 3D Stager 커뮤니티에 참여해 보십시오. 여러분의 의견을 환영합니다.
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