합성 워크플로에서 마스크 적용

마스크를 사용하면 컴포지팅, 채우기, 배치 작업 중에 이미지의 특정 지역에서 작업할 수 있어, 나머지 부분은 보존하면서 필요한 부분만 변경할 수 있습니다.

바이너리 마스크 해석

마스킹 노드와 마스크 입력은 바이너리 이미지 마스크를 허용합니다. px 값이 효과가 적용되는 위치를 결정하는 회색 음영 또는 단일 채널 이미지입니다.

• 흰색(높은 휘도)은 편집이 적용되는 지역을 표시합니다(컴포지팅, 생성형 채우기 또는 조정).
• 검은색은 수정되지 않은 상태로 유지되는 영역을 표시합니다.

각 노드의 특정 동작을 이해하려면 문서를 확인하세요. 일부 작업은 의미를 반전시키거나 소프트 마스크를 지원할 수 있으므로 세부사항이 다를 수 있습니다.

정확한 아트 디렉션을 위해 외부 애플리케이션에서 마스크를 수동으로 생성하거나 휘도 기반 또는 세분화 노드를 사용하여 워크플로 내에서 프로그래밍 방식으로 생성할 수 있습니다.

외부 애플리케이션에서 마스크 만들기

이 방법은 실루엣—로고, 제품 오려내기 또는 수작업으로 정제된 영역 등—에 대한 정확한 제어가 필요할 때 가장 효과적입니다.

워크플로 내에서 마스크 생성

모든 마스크를 수작업으로 제작할 필요는 없습니다. 워크플로에는 휘도 기반 또는 세분화 스타일 마스크와 같이 프로그래밍 방식으로 마스크를 생성하는 노드가 포함되어 있어, cnodes를 따르는 노드가 준비된 마스크 입력을 받을 수 있습니다.

생성된 마스크는 노드에서 달리 지정하지 않는 한 흰색은 적용, 검은색은 보호하는 방식을 따릅니다.

그래프에서 마스크 연결하기

사용 사례

• 선택적 컴포지션: 흰색 마스크 영역 내부에만 피사체나 제품 배치
• 생성형 편집: 주변 콘텐츠를 보존하면서 Firefly 스타일 채우기 또는 확장을 마스크된 영역으로 제한
• 배치 일관성: 규칙 기반 마스크(휘도, 피사체 분리)를 적용하여 수동 브러시 작업 없이 여러 이미지를 균일하게 처리

문제 해결